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产品功能及技术特点：
氩离子抛光系统是一个用于样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备，以便样品在SEM及其它设备上进行检测分析。它采用两支具有低能聚集的小型潘宁离子枪，可提供快速柔和的抛光效果，用于样品的终极抛光。新型低能聚焦电极使得离子束的直径在几乎整个加速电压范围内都保持恒定。每个枪都可准确独立地将离子束对中在样品上，从而产生极高的离子抛光速率。在操作过程中，可随时改变枪的角度。通过控制气体流量可将枪电流变化范围控制在0~100mA之间。可利用IlionII进行抛光加工由多元素组成的试样，以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。如焊缝截面，集成电路焊点，多层薄膜截面，颗粒、纤维断面，复合材料、陶瓷、金属及合金、岩石矿物及其他无机非金属等各种材料的SEM、EBSD样品。
产品主要技术参数：
1、离子枪：两个配有稀土磁铁的三元构造（阴极、阳极与聚焦极）潘宁离子枪，聚焦离子束设计,高性能无耗材
2、抛光角度： +10° 到 -10° ，每个离子枪可独立调节
3、离子束能量：100 V 到 8.0 kV
4、离子束流密度：10 mA/cm2 峰值
5、抛光速度：300 μm/h（8.0 kV条件下对于硅试样）
6、样品装载： Ilion专利的样品挡板, 装样简单，再次抛光位置准确，可重复使用，配合Sample Stub可直接转至SEM中观察。
7、样品旋转：0.5到6 rpm连续可调
8、束流调制：独特的离子束调制功能，可进行扇形截面抛光（扇形角度为10到90度可调）和平面抛光。
9、压力：5x10-6 托基本压力，8.5x10-5托工作压力
10、真空规：冷阴极型，用于主样品室；固体型，用于前级机械泵
11、样品空气锁： 独特的Whisperlok设计，样品更换时间<1Min，无需破样品室真空
12、10 英寸触摸屏： 操作简单，且能够完全程序化控制所有参数可进行配方操作。
13、配方操作模式：自定义不同的加工参数组合，实现一键操作。
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