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Zeiss Crossbeam 550聚焦离子束扫描电子显微镜 |
电子束（SEM）系统
发射源：肖特基热场发射电子枪
分辨率：0.7 nm @ 15 kV；1.4 nm @ 1 kV
加速电压：20 V – 30 kV，10 V/step连续可调
探针电流：10 pA – 40 nA
放大倍数：12x – 2,000,000x
离子束（FIB）系统
离子源：液态镓（Ga）金属离子源
分辨率：3 nm @ 30 kV
加速电压：0.5 kV – 30 kV，10 V/step连续可调
束流范围：1 pA – 100 nA
放大倍数：300x – 500,000x
样品台与样品室
样品台类型：6轴优中心马达驱动，X/Y方向0–100 mm，Z方向0–50 mm，倾斜角度-4°～70°，旋转360°
样品室尺寸：330 mm（直径）× 270 mm（高）
最大样品直径：150 mm
配备探测器
探测器组合：SE2、EsB、Inlens、6分区抽插式BSD、抽插式STEM、牛津UltimMax100-EDS、牛津Symmetry-EBSD
TKD探头：可实现透射菊池衍射分析
核心功能
双束成像：离子束连续切割同时进行电子束高分辨成像
大束流加工：高达100 nA的FIB束流，材料移除速率可提升约40%
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